| 雷射直写式奈米周期性结构图案制程设备 |
| TW099121027 2010-6-28 发明申请 |
| 2012-1-1 |
| 本发明关於一种雷射直写式奈米周期性结构图案制程设备，设有一平台组、一量测回授组及一雷射直写头组，该平台组设有一底座及一混合式移动平台，该量测回授组与平台组相结合且设有一雷射干涉仪、一反射装置及一讯号接收装置，该雷射直写头组设有一雷射直写头、一雷射直写头控制介面装置及一对位介面装置，该对位介面装置系与量测回授组及雷射直写头控制介面装置相电性连接，提供一可产生任意图形及晶格排列之奈米孔洞、突破光学绕射极限缩小记录点、提高加工速度、精度及加工范围且成本低之结构图案制程设备者。 |
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