| 一种激光干涉仪测量设备 |
| CN202321598287.3 2023-6-21 实用新型 |
| 2023-11-17 |
| 本实用新型涉及半导体技术领域，公开一种激光干涉仪测量设备。其中激光干涉仪测量设备包括真空室、待测量组件、干涉仪模块和激光器模块。真空室设置有真空腔；待测量组件设置于真空腔内，待测量组件包括反射镜和待测量物体，反射镜安装于待测量物体的侧壁；激光器模块与干涉仪模块连接，激光器模块用于向干涉仪模块发射光束；干涉仪模块设置于真空腔内，干涉仪模块对应反射镜设置，干涉仪模块用于测量反射镜的位移。本实用新型中，真空腔可以保持一定真空度，为干涉仪模块提供良好的工作环境，可以大大优化环境颗粒、气流抖动和空气折射率变化等因素对高精密测量的影响，因此提高了干涉仪模块对待测量物体的检测精度。 |
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