| 用于自干涉荧光显微镜的系统 |
| IN201911031731 2019-8-6 发明申请 |
| 2021-2-12 |
| 本发明通过基于自干扰原理修改显微镜配置来解决定位精度问题。 本发明提供了一种用于定位显微镜的荧光成像系统,其中所述系统包括:自参考干涉; 相位掩模; 其中,所述自参考干涉适于为用于超分辨率成像的每个荧光点源形成至少一个干涉环结构。 这样,每个荧光点源形成干涉环结构,而不是形成斑点图像。 该环形结构将相同的光扩散到更多数量的像素上,从而减少像素化的影响。 在这种情况下,可以看到质心计算精度提高了4-5倍。 |