| 一种磁场发生装置及可施加磁场的透射电子显微镜样品杆 |
| CN202010460837.X 2020-5-27 发明申请 |
| 2020-12-4 |
| 本发明公开了一种磁场发生装置，所述的磁场发生装置上设有磁场发生端面，所述的磁场发生端面的厚度为100纳米至280微米，所述的厚度为平行于电子束方向的尺寸；此结构的磁场发生装置能产生0T?1.5T的稳定匀强磁场。及一种可施加磁场的透射电子显微镜样品杆，包括杆身及杆头，所述的杆头设于所述的杆身的一端，所述的杆头设有上所述的磁场发生装置；该透射电子显微镜样品杆的磁场发生装置把能够产生的磁场的最大值提高到1.5T，并且这个磁场能够施加在电镜样品上同时使样品高质量成像。 |
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