| 使用单相掩模改善STED和分辨力显微镜性能的装置 |
| EP19728145 2019-5-17 发明申请 |
| 2021-7-28 |
| 本发明涉及一种用于高空间分辨率成像的方法，包括用于受激发射耗尽(STED)显微镜和可逆可饱和光学荧光跃迁(RELFT)显微镜的相位板或空间光调制器(SLM)装置， 其中在所述相位板或SLM上压印双涡旋图案以产生光束。 本发明还涉及一种用于STED和分辨显微镜的方法，其包括使用相位板或相位板调制激光器的光学相位的步骤。 具有相位掩模的空间光调制器装置，所述相位掩模包括具有可调半径的双涡流。所公开的相位掩模以及STED和分辨力显微镜的方法可以有利地应用于提供混合2D/3D STED方案，但是相对于现有技术而言，具有显著降低的对准自由度。 对于在非相干光束叠加中发现的情况，因此提供了光束质量的改进，即最小化的中心强度和较低的像差敏感性，导致信号电平和轴向性能的提高。 |
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