| 使用单相掩模改善STED和分辨力显微镜性能的装置 |
| US17056612 2019-5-17 发明申请 |
| 2021-7-8 |
| 本发明涉及一种用于高空间分辨率成像的方法，包括用于受激发射耗尽(STED)显微镜和可逆可饱和光学荧光跃迁(RELFT)显微镜的相位板或空间光调制器(SLM)装置， 其中在所述相位板或SLM上压印双涡旋图案以产生光束。 双涡旋图案允许在成形STED光束时具有一定的自由度，以改善显微镜的轴向性能和光学切片能力。 本发明还涉及一种用于STED和分辨率显微镜的方法，包括使用相位板或具有相位掩模的空间光调制器装置来调制激光器的光学相位的步骤，所述相位掩模包括具有可调半径的双涡流。 所公开的相位掩模以及STED和分辨力显微镜的方法可以有利地应用于提供混合2D/3D STED方案，但是相对于在非相干光束叠加中发现的情况，其对准自由度显著降低， 从而提供光束质量的改善，即最小化的中心强度和较低的像差敏感性，导致信号电平和轴向性能的提高。 |
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