| 一种透射电镜的检验方法 |
| CN202110202374.1 2021-2-23 发明申请 |
| 2021-6-18 |
| 本申请实施例公开了一种透射电镜的检验方法，所述方法包括：提供一单晶硅样品；校准透射电镜的第一放大倍率，第一放大倍率大于预设放大倍率；形成位于单晶硅样品上的多个沟道孔；在小于第一放大倍率的多个第二放大倍率下，通过椭圆拟合测量各个第二放大倍率下多个沟道孔中至少三个目标沟道孔的孔间距；将多个第二放大倍率中最高第二放大倍率下的孔间距记为第一孔间距；将多个第二放大倍率中除最高第二放大倍率以外的其他第二放大倍率下的孔间距记为第二孔间距；根据第一孔间距和第二孔间距，计算第二孔间距对应的第二放大倍率的第一准确度；通过第一准确度与标准阈值，对第一准确度对应的第二放大倍率进行检验。 |
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