| 发射针形成方法、发射针、电子源及电子显微镜 |
| CN202110323708.0 2021-3-26 发明申请 |
| 2021-6-4 |
| 本发明公开了一种发射针形成方法、发射针、电子源及电子显微镜,涉及电子显微镜技术领域,发射针形成方法包括将直径为0.1?0.5mm的柱形体的部分置入电化学腐蚀液中,向电化学腐蚀液中通入第一电流,柱形体与电化学腐蚀液发生电化学腐蚀,直至柱形体靠近电化学腐蚀液液面的位置断开形成上下两段;将上段柱形体的断开处置入电化学腐蚀液的液面以下,向电化学腐蚀液通入第二电流,第一电流的强度大于第二电流的强度,上段柱形体的断开处与带电流的电化学腐蚀液n次接触,n为大于或等于0的正整数,直至断开处的端面形成半径大小为0.1?0.3um的圆滑表面。如此设置,将存在凹凸不平处和微裂纹的部分腐蚀掉,形成圆滑表面,电子发射过程会更加均匀和稳定。 |