| 干涉仪的模版用于光刻过程 |
| KR1020080132290 2008-12-23 发明申请 |
| 2010-7-1 |
| 目的 : 所述干涉仪的一种模版用于一光刻工艺是提供以防止所述的未对准一个覆盖由将一移动反射镜反射的激光从激光干涉仪。构成 : 一掩模版(10)包括光源和一个照明光学系统。一种掩模台(20)保持所述掩模版作为一掩模。一种激光干涉仪(30)测量所述位置所述掩模台在实际的时间。一种移动反射镜(15)被附着在所述掩模版的安装表面(25)的所述掩模版级。所述移动反射镜是固定在所述横向侧的所述X-轴和Y-轴所述的掩模版。版权kipo2010 |
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