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基于晶片形貌的引导扫描电镜测量

US15814884 2017-11-16 发明授权

2021-3-23

晶片形貌测量系统可以与扫描电子显微镜配对。可以将形貌阈值应用于关于晶片的晶片形貌数据，所述晶片形貌数据是通过晶片形貌测量系统获得的。可以为晶片生成度量采样计划。该度量采样计划可以包括晶片形貌数据中高于形貌阈值的位置。扫描电子显微镜可以使用计量采样计划扫描晶片并识别缺陷。