| 一种周期脉冲高能离子注入机 |
| CN202311591526.7 2023-11-27 发明申请 |
| 2024-1-12 |
| 本公开实施例提供一种周期脉冲高能离子注入机，涉及半导体离子注入技术领域。该周期脉冲高能离子注入机的具体实施方式包括：周期脉冲离子源周期性地产生高密度等离子体，由引出抑制电极和三坐标引出电极引出离子束，经过质量分析器的质量筛选之后传输给周期脉冲射频加速系统，周期脉冲射频加速系统的射频脉冲的脉冲周期与周期脉冲离子源的离子源脉冲的脉冲周期同步，将质量筛选之后的离子束加速至高能量状态，加速后的离子束传输至能量分析器进行能量筛选，通过离子束扫描装置展开经过能量筛选之后的离子束，再经由束流平行化透镜产生平行的离子束，最后传输至靶室完成注入。该实施方式能够降低机台能耗和面积，提升注入离子能量。 |
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