用于质谱仪的质量校准装置
 
US16220291  2018-12-14  发明授权

2020-3-24
 
  描述了一种校准装置和校准质谱仪的方法,其中两种或多种彼此非常接近的不混溶质谱校准化合物在它们的液面上方共享共同的顶部空间体积。 这种布置允许每个校准剂以不同的速率蒸发,同时允许顶部空间浓度随时间保持相对不变(形成准平衡校准剂混合物)。 混合物或者从校准瓶经由限流器输送到质谱仪的离子源,或者输送到真空泵。 顶部空间体积中的校准气体混合物可用于校准质谱仪。
 
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