| 一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法 |
| CN202311195609.4 2023-9-15 发明申请 |
| 2024-1-23 |
| 本申请涉及一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法，包括：双道O型密封圈法兰、分离规、复合真空计、高纯N2、四极质谱计、样品测试室、气体质量流量计、分子流导元件、十四烷标准物质、分子泵、干泵。本申请提出的一种基于四极质谱质量歧视效应校正的真空材料分放气率测量装置及方法，能够消除所述四极质谱计测量大质量数气体分子时由于自身灵敏度下降造成的质量歧视效应，从而实现真空材料中释放的大质量数气体分子分放气率的精确测量，具有高效自动化、实时动态测量等独特优点，最终可建立成真空材料分放气率标准装置。 |
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