| 射频离子阱离子加载方法 |
| WOIB19057463 2019-9-4 发明申请 |
| 2020-3-12 |
| 一种在质谱仪中处理离子的方法，包括 : 将一种或多种前体离子引入碰撞池中以使所述离子的至少一部分碎裂， 其中碰撞单元被配置为限制m/z比高于选定阈值的离子(即高m/z离子)。 离子从碰撞单元释放并被引入下游分析器离子阱以径向限制高m/z离子。 碰撞单元和分析器离子阱被配置为限制m/z比低于所述选定阈值的离子(即低m/z离子)。 离子被引入碰撞单元并经历碎裂。 碎片离子从碰撞单元释放并被引入分析器离子阱中，从而用高m/z和低m/z离子加载分析器离子阱。 离子从分析器离子阱释放并由检测器检测。 |
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