| 离子注入方法 |
| CN202210675815.4 2022-6-15 发明申请 |
| 2023-12-22 |
| 本申请提供一种离子注入方法，采用离子注入机在晶圆中注入砷离子，并用于降低所述晶圆的金属污染含量，包括：通过所述离子注入机的离子源产生砷离子束，所述砷离子束包括多种不同质荷比的掺杂离子，所述不同质荷比的掺杂离子在磁场运动中的轨迹不同；采用所述离子注入机的质量分析器通过质荷比筛选出符合标准的掺杂离子，所述符合标准的掺杂离子至少包括化合价为+2价的砷离子；通过所述离子注入机的注入系统将所述符合标准的掺杂离子注入至所述晶圆中，其中所述+2价的砷离子的注入含量占掺杂离子的总注入含量的99％以上。本申请的离子注入方法能够降低离子注入时的金属污染含量。 |
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