| 质谱仪离子源的清洁方法 |
| CN202311207989.9 2023-9-19 发明申请 |
| 2023-12-15 |
| 本发明公开了一种质谱仪离子源的清洁方法，是在靶板槽内安装清洁靶板，清洁靶板具有至少一个倾斜设置的第一反射面，激光器产生的激光经第一反射面反射后照射在离子源极板的底面并形成清洁光斑，将离子源极板的底面上的残留物质清理；在清洁靶板随靶板槽沿X向平移过程中，激光器产生的激光在第一反射面上的入射点高度逐渐变高或逐渐变低，反射点高度随入射点高度同步逐渐变高或逐渐变低，使照射在离子源极板的光斑沿X向移动。本发明在第一反射面移动过程中使得激光的入射点高度在不断变化(可以由高到低，入射点高度变化也可以是由低到高)，使得清洁光斑也沿X向平移，进而实现离子源极板不同位置的清洁，结构巧妙，降低了清洁成本和清洁难度。 |
微信公众号