| 离子源腔体、离子源和质谱仪 |
| WOCN22141100 2022-12-22 发明申请 |
| 2023-11-2 |
| 本发明公开了一种离子源腔体，包括腔体本体，所述腔体本体内设有底部开口的内腔，任意水平面在所述内腔上截得的廓线为方形；所述腔体本体的底部开口形成底孔，所述腔体本体的顶面上设有与所述内腔相连通的顶孔，所述底孔的面积大于等于任意水平面在所述内腔上截得的方形廓线围成的面积。本发明还公开了一种离子源和质谱仪。本发明的离子源腔体，抽真空时，顶孔上方安装的飞行管内的空气经顶孔进入腔体内，腔体内的气体通过底孔再经下方的真空腔室排出，由于底孔的面积更大且内腔与底孔之间无死角，保证真空腔室内的真空度与腔体本体内的真空度一致性，即可使真空度更加均匀。 |
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