质谱分析装置和质谱分析方法
 
WOJP20033694  2020-9-4  发明申请

2022-3-10
 
  本发明包括:存储单元411,其存储低于所获得的最大测量离子强度的参考值; 对于具有规定的质荷比的离子, 通过优化质谱分析装置的各部分的测量参数和参数调整单元43,当测量包括具有规定质荷比的离子的样品时,参数调整单元43调整各部分的测量参数,使得测量的离子强度成为参考值。
 
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