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质谱分析装置和质谱分析方法
WOJP20033694 2020-9-4 发明申请
2022-3-10
本发明包括:存储单元411,其存储低于所获得的最大测量离子强度的参考值; 对于具有规定的质荷比的离子, 通过优化质谱分析装置的各部分的测量参数和参数调整单元43,当测量包括具有规定质荷比的离子的样品时,参数调整单元43调整各部分的测量参数,使得测量的离子强度成为参考值。
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