| 真空处理装置和质谱分析仪 |
| CN201580084663.9 2015-11-20 发明申请 |
| 2018-7-17 |
| 能够充分抑制在使对象物在真空室内移动时产生释气。真空处理装置(100)包括：真空室(1)；载置台(2)，其配置在真空室(1)的内部，供作为处理对象的对象物载置；内部导轨(31)，其铺设在真空室(1)的内部，用于引导载置台(2)；贯通孔(103)，其形成于真空室(1)的侧壁(102)；连结棒(4)，其一端与载置台(2)连结，并且贯穿于贯通孔(103)，另一端配置在真空室(1)的外部；可动构件(5)，其连结于连结棒(4)的另一端；驱动机构(8)，其配置在真空室(1)的外部，用于使可动构件(5)移动；以及波纹管(6)，其配置在可动构件(5)与侧壁(102)之间，以保持真空室(1)的气密性的状态追随可动构件(5)的位移。 |
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