离子源
 
US16830577  2020-3-26  发明申请

2021-9-30
 
  本发明提供了一种包含多个组分的离子源,其中至少一个组分部分地涂覆有硅层。 离子源降低样品与载气之间的反应性,减少或消除离子色谱图中的拖尾,和/或提高质谱保真度。 还提供了在质谱仪或气相色谱-质谱仪中使用离子源的方法。
 
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