| 硅基靶板及其生产方法和应用 |
| CN202111189007.9 2021-10-12 发明申请 |
| 2023-4-14 |
| 本发明公开了一种硅基靶板的生产方法，包括如下步骤：步骤一：在硅片表面镀疏水层；步骤二：利用激光雕刻在硅片镀有疏水层的正面上雕刻样品点，且样品点的雕刻深度大于等于疏水层的厚度。本发明还提出了一种硅基靶板以及硅基靶板在质谱检测中的应用。在进行质谱检测时，硅基靶板作为样品与基质共结晶的载体，硅基靶板上的亲疏水处理能够有效束缚样品(蛋白提取液和基质溶液)，并使得它们共结晶更均匀；靶板上样品在激光作用下发生离子化，再经过高压电场加速，进入无场区，最终达到检测器，从而能够满足质谱检测的要求。另外，本发明的硅基靶板的生产方法还具有工艺流程简单，便于实现工业化生产的优点。 |
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