| 组合式静电透镜系统，用于离子注入 |
| WOUS15067732 2015-12-28 发明申请 |
| 2016-6-30 |
| 一种系统和方法被提供用于注入离子在较低的能量进入工件(109)。离子源，配置成产生离子束，所述质量分离磁铁(102)被配置成质量解决离子束。离子束可以是带状射束或扫描离子束。质量解析孔(103)位于下游的质量分离磁铁过滤器不希望物质从离子束。组合式静电透镜(106)系统位于下游的质谱分析仪，所述离子束路径偏转和污染物通常过滤出的离子束，同时减速和平行化的离子束。一种工件扫描系统，进一步位于下游的所述的组合式静电透镜系统，和配置成选择性地平移工件在一个或多个方向上通过离子束，其中将离子注入到工件。 |
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