| 一种扫描电子显微镜电子束斑深度的测量方法 |
| CN202011154425.X 2020-10-26 发明申请 |
| 2021-2-5 |
| 本发明提出一种测量扫描电子显微镜电子束斑深度的方法，在导电金属基底层上，逐步溅射上若干层金属层，形成标准样品；利用扫描电子显微镜对标准样品在测试倍率下进行聚焦放大扫描，同时利用能谱仪在测试倍率下分别获取每一金属层的金属元素的出峰临界值电压，以及扫描显微镜电子束到达每一金属层表面激发金属特征信号需要的深度值；进行建模形成测试倍率下的三坐标数据矩阵；调整测试倍率再按照上述的方法分别获取不同倍率下的三坐标数据矩阵；将在不同测试倍率下获取的的数据矩阵进行拟合形成数据矩阵群落；通过拟合形成三维曲面，按照三维曲面则可得到任一倍率和任一出峰临界值电压下的扫描电子显微镜的电子束斑深度值。 |
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