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产业专利数据

质谱系统中的原位调节

EP18211505 2018-12-11 发明申请

2019-6-19

在质谱仪或气相色谱仪/质谱仪系统(100)中，加入两种或多种不同的调节气体以调节或改变离子源(120)的一个或多个表面或区域。可将调节气体直接添加到离子源(120)中。当质谱仪不分析样品时，可以离线添加调节气体。