| 一种磁溅射真空镀膜永磁体的制造方法 |
| CN202211385289.4 2022-11-7 发明申请 |
| 2023-1-31 |
| 本发明公开了一种磁溅射真空镀膜永磁体的制造方法，属于永磁体制造技术领域，包括以下步骤：S1、对基材进行预处理，随后按照一定的距离顺序，将校准材料在下，基材在上的叠合顺序，放置在溅射工位，S2、将靶材安装到靶材基座上，随后镀膜室进行抽真空处理，通入保护气。三元合金薄膜较二元合金薄膜在晶粒尺寸上获得了更为细小的晶粒度，减缓了腐蚀液与基体金属的直接接触速率，使得材料耐腐蚀性能得到较大提高，且在实际的生产过程中，通过利用烧结Nd2Fe14B稀土永磁体次品，用于对靶材的洁净度进行检测，避免损耗基材进行检测，在实际的应用过程中优化了抽检和全检的流程，且采用质谱仪进行检测可以实现对靶材的监控，流程简单且高效。 |
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