| 一种基质辅助激光解吸离子源装置 |
| CN202011274432.3 2020-11-15 发明申请 |
| 2021-3-30 |
| 本发明属于激光解吸电离技术领域，具体涉为一种基质辅助激光解吸离子源装置。本发明装置。本发明装置由二维运动机构、密封垫、密封垫安装座、绝缘板、靶板安装座、靶板、离子通道密封座、靶板舱门、离子引入装置、离子源密封盖板、离子源腔体配合连接组成。本装置通过简单巧妙的机械设计和靶板移动策略，可以方便快速地完成基质辅助激光解吸离子源靶板更换，结构简单可靠；在更换靶板时，无需复杂的机械装置实现真空密封。 |
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