| 离子源腔体、离子源和质谱仪 |
| CN202221024061.8 2022-4-29 实用新型 |
| 2022-8-16 |
| 本实用新型公开了一种离子源腔体，包括腔体本体，所述腔体本体的底部设有底孔、顶部设有顶孔，所述底孔的过流面积大于等于所述顶孔的过流面积。本实用新型还公开了一种离子源和质谱仪。本实用新型的离子源腔体，通过将底孔的过流面积设置为大于等于顶孔的过流面积，在抽真空时，可使位于腔体本体下方的真空腔室内的气体通过底孔及时排除，从而避免在真空腔室与腔体本体之间形成压差，保证真空腔室内的真空度与腔体本体内的真空度一致，可使真空度更加均匀。 |
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