| 离子注入系统及方法具有可变能量控制 |
| WOUS15011578 2015-3-6 发明申请 |
| 2015-9-3 |
| 离子注入系统及注入离子在不同能量的方法在工件。该系统包括离子源经配置离子化掺杂剂气体成多个的离子，并形成离子束。位于下游的质量分析器的离子源，配置成质量分析离子束。一种减速/加速段位于下游的质量分析器。能量过滤器可以形成减速/加速阶段的一部分或可以位于下游的减速/加速阶段。端站设置具有与其相关的用于定位工件的工件支撑前离子束还设置。一种扫描设备，被配置为扫描一个或多个离子束与工件的支架相对于彼此。一个或多个电源可操作地耦合到一个或多个离子源，质量分析器，减速/加速阶段，能量滤芯。控制器被配置成选择性地改变一个或多个电压分别提供给一个或多个所述减速/加速阶段和能量过滤器的同时扫描的离子束和/或工件支架，所述选择性地改变所述一个或多个电压为基础，至少部分位置上的离子束相对于工件支架。 |
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