| 质谱分析系统和方法 |
| US16937862 2020-7-24 发明申请 |
| 2021-3-25 |
| 一种质谱分析系统，包括：样品保持器，设置在真空变换器中，样品设置在样品保持器上； 照射器，其被配置为对样品执行溅射或电离；分析器，其被配置为分析由照射器从样品产生的电离样品；以及控制器，其被配置为控制照射器或分析器并执行第一处理和第二处理。 第一个过程是通过向样品的一部分照射激光或离子束来确定样品中材料的位置信息， 第二过程是在样品中的材料发生变化的部分中，将具有第一输出值的激光或离子束照射到样品的另一部分上，并在其它部分中照射具有第二输出值的激光或离子束。 |
微信公众号