| 所述空白基片存储容器，用于存储掩模用基板，光掩模坯料和基板传送方法 |
| JP2017049655 2017-3-15 发明申请 |
| 2018-8-9 |
| [问题]为了提供一种抗蚀图形，同时抑制效果，光掩模衬底的光掩膜的衬底储存容器可存放·运输。所述内挡件及具有箱盒内部部件[A]，容器主体具有上和下盒，和密封带，所述容器主体和内部构件，0.1克，40℃下60分钟的采样时间保持部件中释放出来，气相色谱-质谱联用仪进行检测的脱气总量，NG terms3N×1.9×10或更小的从聚合物材料，所述密封带，10×10~10，在150℃下保持大的条件下采样过程中释放的脱气组分，气相色谱-质谱联用仪进行检测的脱气总量，N个-1.8×10光掩模衬底储存容器中以tetradecane3合乎要求。图[图1] |
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