| 一种质谱装置的处理分析系统及方法 |
| CN202111081860.9 2021-9-15 发明申请 |
| 2021-12-3 |
| 本发明公开了一种质谱装置的处理分析系统，包括进样系统、样品离子化系统、离子检测器、数据采集卡、控制板和分析软件；所述进样系统包括进样腔和主体腔，所述样品腔位置设有样品靶；所述样品离子化系统包括真空系统和离子源，所述真空系统对真空区域进行抽真空；所述离子检测器用于检测不同质荷比的离子飞行时间；所述数据采集卡对离子检测器输出的电信号进行采集和转换，传递至控制板；所述分析软件安装在处理器上，所述处理器接收控制板传输的数据，利用分析软件进行分析。本发明真空系统可以使得真空区域内的压强达到3×10?4Pa以下，高脉冲激光照射下，有效离子化样品，检测限达1fmol/ul，质量检测准确性：内标法精度150ppm，外标法精度200ppm。 |
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