| 自动化质谱库保留时间校正 |
| CN201780051347.0 2017-7-19 发明授权 |
| 2021-9-14 |
| 使用DIA串联质谱方法来产生多个经测量产物离子质谱。从已知化合物质谱库中检索一或多个产物离子，或针对数据库的所述已知化合物计算一或多个理论产物离子。对于每一已知或理论产物离子，根据所述经测量产物离子质谱计算XIC。对于产生已知化合物子集的所述已知化合物，将高于阈值强度的经测量XIC峰值进行分组。针对所述已知化合物子集检索或计算已知或理论保留时间。将所述已知化合物子集的所述已知或理论保留时间用作自变量，且将所述已知化合物子集的所述经测量XIC峰值组的所述经测量保留时间用作因变量，来计算回归函数，以校正所述已知或理论保留时间。 |
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