| 质谱成像装置 |
| WOJP16074601 2016-8-24 发明申请 |
| 2018-3-1 |
| 感兴趣的区域设定单元(41)建立二维在样品和多个感兴趣区域测量点(区域)的区域中响应于用户指令。测量区域设定单元(42)建立单独的测量点，每个点与测量点位置中完全不重叠在所述感兴趣区域中的测量点附近，设定测量区域中包括多个独立测量点。当用户指示，分别对感兴趣区域的测量方法和测量区域从输入单元(5)，测量方法分配单元(44)分配并存储每个区域的测量方法。质谱分析控制单元(3)执行根据分配给每个测量点的测量方法所述感兴趣区域的测量区域，并将数据存储在数据存储单元(21)。所述测量区域的位置稍稍偏离所述感兴趣区域中，所述二维各组分的分布被认为基本上相同的测量区域之间的感兴趣区域。因此可以获得高质量的MS相对于基于感兴趣区域的图像成像不同测量方法，几乎没有不利影响引起的耗尽元件或基体，采用激光照射。 |
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