| 一种离子源极片清洗装置 |
| CN202011576219.8 2020-12-28 发明申请 |
| 2021-4-16 |
| 本发明公开了一种离子源极片清洗装置，设计离子源极片清洗技术领域；该离子源极片清洗装置用于清洗质谱仪的离子源极片，质谱仪包括壳体，壳体内开设有过渡腔，过渡腔内安装有离子源极片和活动地设置于过渡腔内的样品靶托，样品靶托具有与过渡腔连通的安装腔，安装腔用于安装样品；该离子源极片清洗装置包括清洗靶，清洗靶包括靶座和清洗刷，靶座与样品靶托的尺寸适配，且用于安装于安装腔内，清洗刷设置于靶座，且至少部分伸出安装腔，且被配置为在样品靶托的带动下清洗离子源极片。该离子源极片清洗装置具有极片清洗便捷、清洗时间短、效率高、成本低，且无需拆卸离子源极片，能有效地保证仪器整体精密度的优点。 |
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