| 用于在质谱仪中减少中性污染的装置和方法 |
| US16630007 2018-6-29 发明申请 |
| 2021-3-25 |
| 提供了用于控制包含在质谱仪系统的高真空室中的组分的污染的装置和方法。 所述设备和方法使用以逆流配置注入到来自所述电离室的进入粒子流的中性气体束。 逆流可以在直接相反的逆流方向(例如180度)上，或者与进入的离子流成横流角度(例如以大约10度和170度之间的角度流动)。 逆流在中性分子和其它不希望的污染物到达光谱仪的高真空级(例如，超过IQ0孔口)之前破坏轴向气流并使它们转向。 通过减少污染物向容纳在质谱仪内部深处的敏感部件中的传输，本发明可以增加通过量，改善鲁棒性，和/或减少典型地排出/拆卸/清洁污损部件所需的停机时间。 |
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