| 激光溅射超声分子束源-离子阱质谱装置及其操作方法 |
| CN201910705412.8 2019-8-1 发明申请 |
| 2019-12-20 |
| 本发明属于质谱分析技术领域，具体为激光溅射超声分子束源?离子阱质谱装置及其操作方法。本发明装置包括：离子源部分，离子引入区，分隔圆锥体，四极杆系统，离子阱系统，探测器，冷却器；分隔圆锥体呈喇叭状，将空间分隔为前、后两个腔体；离子源部分和离子引出区部分位于前腔体中，四级杆和离子阱系统以及探测器，冷却器位于后腔体中.本发明利用激光溅射超声分子束离子源，通过调控靶材成份和载气成份，合成一些高活性的气相离子，并且充分利用离子阱作为串联质谱分析的特点，对这些离子的结构和反应进行分析。本发明还可以实现离子任意动能的碰撞诱导解离。 |
微信公众号