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一种用于半导体工艺腔室和气体管线的TOF MS气体质量分析监测系统

KR1020170169018 2017-12-11 发明申请

2019-6-19

本发明涉及半导体工艺腔室及气路气体TOFMS气体质量分析监控系统，更具体地，公开了与半导体工艺气体过程分开的TOF MS半导体工艺室气体管线监测(飞行时间质谱仪时间A)，用于管理半导体工艺室和均匀TOF MS气体质谱分析监测系统的气体管线气体。