| 投影式带电粒子光学系统及成像质谱仪 |
| JP2015033378 2015-2-23 发明授权 |
| 2019-12-25 |
| 本发明提供一种投影型带电粒子光学系统,该投影型带电粒子光学系统能够在抑制测量质荷比的精度降低的同时改变投影放大率。 根据本发明的投影型带电粒子光学系统包括:第一电极,设置成面对样品,并且具有形成在其中的开口,用于允许带电粒子通过; 第二电极,设置在第一电极的与放置样品的一侧相对的一侧上,并且具有形成在其中的开口,用于允许带电粒子通过; 以及飞行管电极,其被设置成使得从样品发射并通过第二电极的带电粒子进入飞行管电极,并且被配置成在其中形成基本等电位的空间。 在带电粒子的移动路径中的至少两个位置处形成主平面。 |