| 用于超高真空腔室的清洗装置及方法 |
| CN201410606142.2 2014-11-3 发明申请 |
| 2016-5-11 |
| 本发明公开一种用于超高真空腔室的清洗装置，包括紫外光源及控制装置、真空泵系统、清洗气源，其特征在于，还包括：四极质谱计，用于测试腔室内的污染物分压；真空规，实时监控腔体内的真空度；压强控制仪和微调阀，所述压强控制仪控制所述微调阀的开度，精确控制所述真空腔室内的清洗气体的分压；以及冷板和温控单元，所述冷板内部通循环水，通过水温去控制腔体外壁的温度；所述温控单元提供温度稳定的循环水。本发明还公开一种用于超高真空腔室的清洗方法。 |
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