| 将一种物质引入工件中和将工件引入植入方法中的加工方法，以及用于加工工件的装置 |
| KR1020187031868 2016-4-5 发明申请 |
| 2018-12-12 |
| 本发明公开了用于改善离子束卤素基源气体的质量的装置和方法。 出乎意料地，惰性气体例如氩或氖离子源室引入所需的同时减少污染物和含卤素离子的量可以增加离子种类的百分比。 本发明公开了质谱仪类型的注入中的所有离子，特别是注入到非有益的工件中的离子。 在一个实施方案中，卤素物质和包括1号源气体的处理被引入离子源室，包括2号源气体和另外包括3号氢化物源气体的惰性气体。 使用气体源如3，3号源气体的组合，而不是当用自然数处理具有较高百分比的纯离子束的种类离子时所发生的。 |
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