| 一种应用于半导体领域的涂层的洁净度的检测方法 |
| CN201811598346.0 2018-12-26 发明申请 |
| 2019-4-16 |
| 本发明涉及一种应用于半导体领域的涂层的洁净度的检测方法，该检测方法的制备应用ICP?MS电感耦合等离子体质谱仪。该涂层洁净度的检测方法主要包括以下步骤：1)将1?4ml的稀酸滴到零件涂层区域，数分钟后收集稀酸称重并检测；2)清洗后，取1?4ml水滴在与酸相同的区域，用直尺做标准，照下包含水滴与直尺的照片，用ImageJ软件算出面积；3)将稀释后的样品用外标法DRC模式进行检测。采用该方法获得的检测结果去除干扰较彻底，测试结果更准确可信度高。 |
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