| 成像质谱仪 |
| JP2018535969 2016-8-24 发明申请 |
| 2019-1-10 |
| 关注区域设定部(41)根据用户指定的，多个测点的样品中的感兴趣区域2的尺寸(微米)被确定。所述测量区域设定部(42)包括感兴趣区域中的各测量点的测量点附近分别地确定测量点完全不重叠，另一组包括多个测量点的测量区。所述用户输入部分(5)，其可分别从测量方法测量指定感兴趣区域，测量法(44)被分配给每个存储区域分配部的测量方法。(3)中感兴趣区域的面积为所述各测量点测量和分析单元测量大容量数据存储单元(21)根据执行所分配的数据存储方法。所述感兴趣区域中的位置偏离被测量区域，所述测量区域的感兴趣区域可以被视为相互间大致相同的三维分布所述组件2。因此，所述消耗性组件而不接收任何的影响矩阵，通过照射激光，不同的测量方式获取高质量的成像感兴趣区域处于MS。 |
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