| 快速调制与下游均化 |
| GB1415045 2014-8-26 发明申请 |
| 2014-10-8 |
| 本发明公开了一种质谱方法包括扫描参数的第一装置，诸如碰撞室2，通过离子成分的混合物通过。透过不同离子成分或第一中产生装置(2)在不同的参数值(例如碰撞能量)，以及由于所需要的时间，该质量分析器中的离子成分分析所需的时间>以碎裂或反应离子碰撞单元扫描所述设备参数中引入了时间调制或型材所述离子成分的强度。这个时间变化，然后除去在离子阱质量分析之前或气室部件均化的方法。碰撞能量的碰撞腔内可以进行多次扫描所需要的时间量的测量光谱。 |
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