真空系统
 
CN201510904072.3  2015-12-9  发明申请

2016-8-31
 
  本发明涉及一种真空系统,该真空系统包括第一真空室和第二真空室,通过第一真空泵、特别是涡轮分子泵将该第一真空室抽真空,该第一真空室和该第二真空室通过通路连接,其中该通路被密封安排包围,该密封安排包括内部密封件和外部密封件,其中压力通风室位于该内部密封件与该外部密封件之间,该压力通风室通过辅助真空泵抽真空,并且其中该内部密封件的至少一个密封面由该第一或该第二真空室的壁材料组成,特别是该内部密封件通过该第一真空室的壁材料与该第二真空室的壁材料之间的直接接触形成。此外,本发明涉及一种质谱系统。
 
仿站