| 真空处理装置及质谱仪 |
| JP2017551499 2015-11-20 发明申请 |
| 2018-8-9 |
| 在真空室的下运动目标的情况下，举例来说可以充分地抑制。真空处理装置(100)，(1)和真空室，真空室(1)设于其中，(2)和待加工物体放置在载物台上，真空室(1)内，载物台(2)和导轨(31)内，(1)(102)(103)形成的真空室壁上有通孔，(2)相对于所述台的一端相连接，所述通孔(103)插入，所述连接杆(4)的另一端(1)外设有真空室，所述连接杆(4)的另一端(5)连接到可动部件，(1)设置在真空室的外侧，可动部件(5)和(8)移动的驱动机构，(5)与墙体(102)设置在可动构件，(1)在维持真空腔的气密性，可动部件(5)和所述波纹管(6)的位移，被提供。 |
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