| 蚀刻深度的测量方法及仪器通过差极化干涉和辉光放电质谱装置，其具有这种测量仪 |
| WOFR17053589 2017-12-14 发明申请 |
| 2018-6-21 |
| 本发明涉及一种蚀刻深度的测量方法，包括以下步骤 : 分离光束(2)为第一，分别为 : 第二，入射光束(21，22)朝向第第一，分别为第二，区域(11，12)样品(10)暴露于蚀刻处理以形成第一，分别为 : 第二，反射的光束(31，32)，重组第一反射光束和反射光束第二形成的干涉测量束；检测第一，分别为 : 第二，干涉光强信号相对于第一，第二，偏振部件(35，37)；计算上和下包络函数差极化干涉相干信号的包络函数；确定一个偏移函数和下包络函数的归一化功能从第一和第一上包络函数；和局部归一化计算差分偏振干涉测量功能在每一时刻(t)。 |
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