| 质谱分析装置 |
| WOJP11075446 2011-11-4 发明申请 |
| 2013-5-10 |
| 在本发明，一第一样品注入后，该产品的强度导出的离子从一个规定的组件被同时，测量一碰撞能量(ce)电压是变化的一个粗调整模式中具有一个大步骤的宽度和一个宽电压范围(S1～S2)。所述测量的所述完成后，该峰值强度之前在所述离子强度变化的程度和所和所述电压后表现出该峰值强度计算用于每个CE电压(S3～S4)。如果该变化的程度是小于或等于门限值，一个精细调整模式是未实现，和CE电压呈现所述粗调整模式中该峰值强度是确定以被所述最佳值(没有在S5; S10)。相反地，如果该程度的变化在所述离子强度超过该门限值，一个较窄的CE电压范围和一个步长较小的宽度是从第一所述的基础上确定所述测量结果样品注入，一个第二样品注入进行，和所述离子强度CE电压被改变时，测量在所述精细调整模式(S6～S8)。CE电压呈现所述精细调整模式中该峰值强度是确定以被所述最佳值。(S9-S10)。这种配置使得它可能以确定该最佳值，用于通过分析CE电压在最两个样品注射。 |
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