| 所述等离子体处理方法 |
| JP2014177016 2014-9-1 发明申请 |
| 2016-4-11 |
| 要解决的问题 : 使用自组织材料由平版印刷技术可提高形状的掩模。方法 : PMMA(步骤S1)材料。随后，PMMA材料经蚀刻后留下的氧气(O2)反应气体的废气等，和，氩气(Ar)气体或废气等不有助于惰性的蚀刻气体供应到腔室，所述反应气体排出时排气取代的。(步骤S2)取代的，利用四极质谱仪(步骤S3)的反应气体量。氧气(O2)0(零)和小于气体量，直到反应气体取代的。排气。氧气(O2)0(零)和气体量变得更小，处理(步骤S4)以排出所取代。去静电。选择的绘图 : 图13 |
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