硅烷注入工艺
 
US12764540  2010-4-21  发明申请

2011-10-27
 
  用于将硅拉博烷分子或选定的电离低质量副产品注入到工件中的方法通常包括在离子源中蒸发和电离硅拉博烷分子以产生等离子体并产生硅拉博烷分子及其电离低质量副产品。 等离子体中电离的硅拉博烷分子和较低质量的副产品随后被提取形成离子束。 用质量分析器磁体对离子束进行质量分析,以允许选定的电离硅硼烷分子或选定的电离较低质量的副产品通过其中并注入到工件中。
 
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