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产业专利数据

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二次离子质谱仪的控制方法和控制程序，二次离子质谱仪

JP2016124520 2016-6-23 发明申请

2017-12-28

[问题]为了准确对应所述二次离子强度的深度从样品表面，样品可以获得元素浓度分布在深度方向准确。[解决方法]一种二次离子质谱系统，对于每一帧，初级通过一次离子束的离子束扫描照射范围为7 : 4，对于每一帧，一次离子束照射样品信号强度的二次离子脱离表面进行溅射(1)，每1帧完成，初级离子束的照射位置在同一方向上移动一定距离，通过溅射刻蚀区照射范围。图[图4]